双电子束可以沉积大尺度薄膜，且具有极高质量和极高重复性。它配备了2个电子束源。每个电子束源安装有多个靶材坩埚，其最多可存储6种靶材料。由于它有2个电子束源，可以同时沉积2种不同的材料到衬底上。此外，还配备有多个样品公转和自转的样品行星机构。可以在多个衬底上精确和同时沉积，同时显著改善沉积薄膜的均匀性和质量。

       此外，利用FBBEAR系统控制软件使工艺过程自动化，从而实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR，提供完整的数据记录，精确的参数调整，以及沉积过程的自动参数设置。这使得沉积过程易于操作、完全自动化、用户友好、一致，并且将提供可靠的实验重复性。

       电子束蒸发可沉积的材料包括：金属(Al、Nb、Ge等)、电介质、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半导体和多种合金等。